“我們很高興今天能夠獲得創(chuàng)新獎。”在頒獎典禮結束后，Nanoscribe首席執(zhí)行官Martin Hermatschweiler強調說。“在經(jīng)歷了密集緊張的技術開發(fā)階段后，這獎項對我們團隊和QuantumX的出色表現(xiàn)來說都是一個非常好的認可。”Martin Hermatschweiler說道。

Quantum X 新型超高速無掩模光刻技術的核心是Nanoscribe獨家專利的雙光子灰度光刻技術（2GL®）。該技術將灰度光刻的卓越性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高端復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝大大縮短了企業(yè)的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。