究領域非常廣泛，包括太陽能光伏電池、玻璃鍍層等。2014年9月，他們在實驗室中成功安裝了全球首臺等離子體分析飛行時間質譜儀（PP-TOFMS），希望通過它來進行基材和鍍層的污染及稀土元素分析。
PP-TOFMS是HORIBA Scientific (Jobin Yvon光譜技術) 在 2012年推出的一款產品，它誕生于歐盟項目“EMDPA”，在項目進展過程中，HORIBA Scientific與來自7個國家的材料科學家進行了反復的論證與實驗，最終由專業的輝光放電質譜（GD-MS）研究團隊設計而成。
帶您認識等離子體分析飛行時間質譜儀（PP-TOFMS）
PP-TOFMS是一款集輝光放電和飛行時間質譜優勢為一體的新型分析設備，可極大地推進鍍層樣品的分析進程。
高分辨率、高靈敏度下，可快速完成深度剖析
PP-TOFMS結合了輝光放電等離子體的濺射速度和時間飛行質譜的快速及高靈敏度，可以實現高分辨率和高靈敏度條件下固體材料的快速化學深度剖析。
擅長分析各類鍍層樣品，獲取元素、分子等信息
PP-TOFMS適用于導體、半導體、非導體各類材料及鍍層分析，每30微秒即可獲得H到U元素的完整質譜和分子信息，包括同位素。在獲得固體樣品的元素信息的同時，PP-TOFMS還可以獲得同位素及分子的分布信息。在整個分析過程中，樣品無需預處理，設備無需超高真空腔，操作簡單而快速。
主要應用領域：
· 摻雜分析（半導體、光電子、太陽能光伏、傳感器、固態電源）
· 表面和整體污染鑒定（PVD鍍層、摩擦層、電氣鍍層、光學鍍層、磁性鍍層）
· 腐蝕科學和技術（示蹤物、標記監測、同位素標記）
· 界面監測等
應用實例——如何對稀土元素進行深度剖析？
PP-TOFMS非常適用于稀土元素的檢出，下圖為氧化鋅薄膜的深度剖析。未使用校準曲線，通過離子束比可直接獲得稀土元素Eu和Tb隨深度的原子百分比變化。
PP-TOFMS的深度分辨率達1 nm，可有效地將薄鍍層中元素隨深度的變化表征出來。并可獲得任何深度的全質譜。
數據采集分析軟件設計得非常人性化，可清晰直觀呈現所有數據，以便快速掌控信息。
