專利摘要顯示，本發(fā)明公開了一種超高真空密封結(jié)構(gòu)及密封方法，超高真空密封結(jié)構(gòu)包括兩個(gè)對接的殼體、金屬密封件；殼體包括對接面以及通孔，兩殼體的對接面之間形成一間隙；金屬密封件置于間隙內(nèi)，其包括兩個(gè)相對的側(cè)面、以及由其中一個(gè)側(cè)面貫穿至另一側(cè)面的連通孔，兩側(cè)面分別朝向兩對接面；側(cè)面上突出的設(shè)置有兩個(gè)以上環(huán)繞連通孔設(shè)置的密封環(huán)，任意兩密封環(huán)的其中一個(gè)落入另一個(gè)密封環(huán)內(nèi)部；每一個(gè)側(cè)面上至少有兩個(gè)密封環(huán)和與該側(cè)面相對的對接面的距離不相等，側(cè)面上至少有一個(gè)密封環(huán)和與該側(cè)面相對的對接面壓緊配合。本發(fā)明至少一個(gè)密封環(huán)形成的密封結(jié)構(gòu)滿足超高真空密封要求即可，使得整個(gè)系統(tǒng)的安裝變得簡單方便，易于加工。