大型一體化機架，無限遠光學系統，獲得均勻平坦和高清晰度的寬廣大視野，內置同軸落射照明，內切換偏光裝置和濾色片，適應各種試樣的高倍觀察，用于材料金相,電子行業大面積硅晶圓,PCB和LCD,柔性電路等。

●  三目五孔：50×-800×,可選其它倍數,帶分劃目鏡和測微尺.

●  廣角大目鏡WF10×/22,無限遠平場物鏡5×,10×,20×,50×,80×.

●  雙層大平臺280*270mm,快慢速移動204*204mm,工作臺升降調焦.

●  內置式同軸落射照明,可變孔徑和視場光闌,內切換偏光裝置.

選配：物目鏡,圖像處理與分析軟件,壓平機,金相制樣設備.

配置明暗場物鏡和明暗場照明系統，提高了顯微鏡的分辨率和物像反差，減少眩光干擾，對試樣中的某些不可見夾雜物、透明顆粒、晶界晶粒和固有色彩均能明晰地顯現及進行對比、評級等。

配置微分干涉相襯系統，通過干涉光路的折射使被觀察物產生立體浮雕效果，突出相對層次關系，更清晰地辨別試樣中看不到的或難于判別的一些結構細節或缺陷，DIC相襯圖像清晰，干涉均勻，浮雕感強。

并以DIC微分干涉相襯系統，使暗視野下的清晰圖像，通過干涉光路的折射使被觀察物產生立體浮雕效果，突出相對層次關系，清晰地辨別試樣中看不到的或難于判別的一些結構細節或缺陷，更具有立體浮雕感，DIC相襯圖像清晰，干涉均勻和浮雕感強。