現代實驗室裝備網 實驗室行業專業網絡媒體
4001009187 0731-84444840
?Copyright 2000-2024 現代資訊 All Rights Reserved
QQ：369830746
4001009187 0731-84444840
?Copyright 2000-2024 現代資訊 All Rights Reserved
QQ：369830746
|
公司基本資料信息
|
|||||||||||||||||||||||||||
KRI 霍爾離子源 eH 3000
上海伯東代理美國原裝進口 KRI 霍爾離子源 eH 3000 最適合大型真空系統, 與友廠大功率離子源對比, eH 3000 是目前市場上最高效, 提供最高離子束流的離子源.
尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6”
放電電壓 / 電流: 50-300V / 20A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體
KRI 霍爾離子源 eH 3000 特性
• 水冷 - 加速冷卻
• 可拆卸陽極組件 - 易于維護; 維護時,最大限度地減少停機時間; 即插即用備用陽極
• 寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
• 多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統; 安裝方便
• 高效的等離子轉換和穩定的功率控制
KRI 霍爾離子源 eH 3000 技術參數
|
型號 |
eH3000 / eH3000L / eH3000M / eH3000LE |
|
供電 |
DC magnetic confinement |
|
- 電壓 |
50-250V VDC |
|
- 離子源直徑 |
~ 7 cm |
|
- 陽極結構 |
模塊化 |
|
電源控制 |
eHx-25020A |
|
配置 |
- |
|
- 陰極中和器 |
Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode |
|
- 離子束發散角度 |
> 45° (hwhm) |
|
- 陽極 |
標準或 Grooved |
|
- 水冷 |
前板水冷 |
|
- 底座 |
移動或快接法蘭 |
|
- 高度 |
4.0' |
|
- 直徑 |
5.7' |
|
- 加工材料 |
金屬 |
|
- 工藝氣體 |
Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors |
|
- 安裝距離 |
16-45” |
|
- 自動控制 |
控制4種氣體 |
* 可選: 可調角度的支架;
KRI 霍爾離子源 eH 3000 應用領域
濺鍍和蒸發鍍膜 PC
輔助鍍膜 ( 光學鍍膜 ) IBAD
表面改性, 激活 SM
直接沉積 DD
若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯絡方式:
上海伯東: 羅先生 臺灣伯東: 王女士
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
www.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw
伯東版權所有, 翻拷必究!